本报讯 记者日前从中国科学院获悉，该院研发成功拥有自主知识产权的世界先进水平的22纳米集成电路制造工艺，已提交国内外专利申请1369件，其中国家知识产权局已受理中国专利申请945件。据介绍，该工艺可以使集成电路产品的功能更多样化，速度更快，成本更低。我国自主知识产权的22纳米集成电路制造工艺技术水平已处于世界领先地位。（赵建国）
来源：中国知识产权报
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